004 館長序

006 諮詢委員

007 評審團

010 初審感言

014 複審感言

019 得獎作品

051 入選作品

201 藝術家索引

序



　　「中華民國第二十屆國際版畫雙年展」由文化部指導，國立臺灣美術館主辦，歷經 40 年間不懈耕耘，宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展，是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一，迄今已是第 20 屆。



　　本屆籌備期間遭逢全球共同面對 COVID-19 疫情的衝擊，故而開啟了嶄新的趨勢與變革，諸如首次採取線上初審審查、入圍作品的運費由主辦單位負擔等，在突破疫情影響的轉圜方案下，也有利提升參賽者的參與便利性及順應國際趨勢，開展新的篇章。



　　本屆共收到 79 國 1011 件作品報名參，歷經初審評審團選出 187 件入圍作品；再交由複審評審團，由實際到館的入圍作品當中，選出 50 國 180 件展出作品，其中亦包含金牌獎、銀牌獎、銅牌獎、評審團特別獎 2 名、優選獎 5 名、佳作 5 名等 15 件得獎作品，將於今年 8 月至 11 月於國立臺灣美術館展出。



　　評審委員們皆對本屆參賽作品的數量眾多、質量優異、風格多樣、技法精煉創新等表示高度肯定；而對疫情影響的反思與關注，也成為契合時代氛圍的創作議題，綜觀本屆作品的色調及主題，彷彿也是創作者在呼應疫情時代恐慌心境下的借鑒交融，凝鍊昇華出沉穩、安定的創作量能之撫慰式傳達。



　　本屆得獎者，除了臺灣的藝術家外，亦有來自日本、中國等亞洲國家者；來自法國、烏克蘭、英國、波蘭、德國、西班牙等歐洲國家者；以及來自哥倫比亞、古巴等中南美洲國家者，精彩呈現不同文化底蘊下，多元的觀點演繹與藝術語彙傳達。此外，本屆得獎者中，不乏 20 多歲年輕的藝術家，銘刻新世代創作者的創作脈絡；有趣的是，兩位不約而同地關注了衰敗、時間荏苒流逝的主題，詮釋廢墟美學視角下的辯證。



　　本屆展出作品趨向大尺幅，顯示創作者在主辦單位規定的範圍內盡情發揮至極致的野心，而創作技法涵蓋傳統技法的凸版、凹版、平版、孔版，亦有部份採取數位版及併用版等時代潮流產物下的創新技法，皆可一窺版畫藝術創作的蓬勃動能及在傳承流變下的豐富樣貌。而作品創作議題涵蓋自我內心世界的深度探索與關照；或對所處時空的叩問與探詢；或純粹淬鍊於形式上的形象美學，那些多元並蓄的洞察或辯證姿態，皆在創作美學的轉譯下，重塑為美學維度下的光影與色彩。



　　最後，感謝本屆諮詢委員及初審評審團、複審評審團，每位委員挹注的辛勞。其中包括：劉錫權、薛保瑕、呂燕卿、楊明迭、萊絲莉·杜斯貝瑞(Lesley Duxbury)、倪朝龍、謝里法、羅平和、徐文瑞、張家瑀、陳曉朋、高實珩。也衷心感謝來自世界各地參賽者對本展的支持及參與，以及對所有得獎藝術



　　家表示祝賀。期許未來，本展能持續耕耘版畫藝術交流與對話的平臺之角色，共同見證與豐富版畫創作領域的多元樣貌。