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OLED有機發光二極體顯示器技術

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			9789572156988
			陳志強
			全華科技
			2007年6月04日
			350.00 元
			HK$ 332.5

詳
細
資
料

* 叢書系列：大專電子
* 規格：平裝 / 368頁 / 19.0*21.0 cm / 普級 / 單色印刷 / 初版
* 出版地：台灣

大專電子

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類
書
推
薦

內
容
簡
介

　　有機發光二極體顯示器具備自發光特性、敏捷的反應速度、寬廣的可視範圍、低的耗電量、清晰的對比、面板厚度薄、重量輕並具備可撓曲等優勢，被喻為完美的顯示器。本書藉由淺顯易懂的辭句將有機發光二極體顯示器之開發歷史、發光原理、面板設計與未來趨勢呈現給讀者。內容包括：有機發光二極體應用與規格、有機發光二極體顯示原理及全彩技術、被動式矩陣背板技術、主動式矩陣背板技術、有機發光二極體陽極製程、有機發光二極體陰極製程、主動式類比畫素設計、主動式數位畫素設計、有機發光二極體封裝技術、有機發光二極體技術藍圖等。本書適用於私立大學、科大電子、電機、光電系「LED製程與應用」課程。

目
錄

第1章　諸論-顯示未來 1-1
1.1　前言 1-1
1.2　平面顯示世代 1-2
1.3 　液晶顯示器的發展與沿革 1-3
1.4　無機發光二極體之發展 1-9
1.5　小分子有機發光二極體之發展 1-9
1.5.1 　小尺寸SMOLED的之開發 1-10
1.5.2　中大尺寸SMOLED的開發 1-12
1.6　高分子有機發光二極體之發展 1-13
1.7　主動式有機發光二極體的優勢 1-18
1.7.1　輕薄省電 1-21
1.7.2　反應速度 1-23
1.7.3 　數位影像 1-24

第2章　有機發光二極體應用與規格 2-1
2.1　前言 2-1
2.2 　有機發光二極體應用 2-2
2.2.1　手持式裝置顯示器 2-3
2.2.2　車用顯示器 2-3
2.2.3　筆記型電腦顯示器 2-4
2.2.4　多媒體應用顯示器與監視器 2-5
2.2.5　航空電子顯示器 2-5
2.2.6　雷達顯示器 2-6
2.2.7 　醫療用顯示器 2-7
2.2.8　平面電視 2-8
2.3　面板解析度 2-10
2.3.1　長寬比 2-12
2.3.2 　CIF與QCIF 2-13
2.3.3　VGA與QVGA 2-14
2.3.4　XGA與SXGA 2-14
2.3.5　 QUXGA與QUXGA-Wide 2-15
2.3.6　HDTV 2-15
2.4　綠色概念設計 2-18
2.4.1　無鉛面板 2-19
2.4.2　無汞面板 2-20
2.4.3　無鉻面板 2-20
2.4.4　省電設計 2-20

第 3章　有機發光二極體顯示原理 3-1
3.1　前言 3-1
3.2　發光二極體顯示原理 3-2
3.3　有機發光二極體顯示原理 3-3
3.3.1　三元色發光原理 3-5
3.3.2　白光發光原理 3-5
3.4　元件結構 3-6
3.4.1 　陽極層 3-8
3.4.2　電洞注入層 3-9
3.4.3　電洞傳輸層 3-9
3.4.4　發光層 3-11
3.4.5 　雙發光層 3-13
3.4.6　電子傳輸層 3-14
3.4.7　陰極層 3-15
3.5　發光效率 3-15
3.5.1 　螢光發光 3-17
3.5.2　磷光發光 3-18
3.6　亮度加強 3-20
3.6.1　對比度 3-21
3.6.2 　光加強結構 3-23
3.6.3　微透鏡陣列 3-24
3.6.4　透鏡製造方法 3-26
3.7　色彩飽和度 3-29
3.8 　反應時間 3-33
3.8.1　灰階對灰階時間 3-34
3.8.2　影像殘留 3-36

第4章　有機發光二極體全彩技術 4-1
4.1　前言 4-1
4.2　彩色化製造流程 4-2
4.3.　熱蒸鍍法 4-4
4.3.1 　真空熱蒸鍍架構 4-4
4.3.2　點狀源與線狀源 4-7
4.3.3　金屬遮罩定位 4-8
4.3.4　金屬遮罩設計 4-10
4.3.5　金屬遮罩精度 4-12
4.3.6　遮罩清潔 4-15
4.4　有機氣相沈積 4-16
4.5 　旋轉塗佈法 4-18
4.6　噴墨印刷法 4-20
4.6.1　噴墨頭設計 4-22
4.6.2　噴墨準確度 4-23
4.6.3 　表面處理 4-27
4.7　外在媒體變換法 4-29
4.7.1　色轉換法 4-29
4.7.2　RGB彩色濾光片法 4-31
4.7.3　RGBW彩色濾光片法 4-33
4.7.4　COA架構 4-34
4.7.5　黑色矩陣設計 4-35
4.8 　轉印法 4-35
4.8.1　雷射感熱成像 4-35
4.8.2　奈米壓印技術 4-36

第5章　被動式矩陣背板技術 5-1
5.1　前言 5-1
5.2　被動式矩陣架構 5-1
5.2.1　被動式面板限制 5-3
5.2.2　有機發光二極體之整流比 5-6
5.3　被動式SMOLED製造流程 5-7
5.3.1　負型光阻製程 5-7
5.3.2　剝脫製程 5-8
5.3.3　整合型分離體製程 5-9
5.4　被動式LEP製造流程 5-11
5.5 　被動式驅動系統 5-12
5.5.1　灰階顯示 5-14
5.5.2　預充電電路 5-17
5.5.3　串音 5-21
5.5.4 　閃爍 5-21
5.5.5　功率消耗 5-22
5.6　驅動IC封裝 5-23
5.6-1　自動捲帶封裝 5-24
5.6.2 　軟膜覆晶封裝 5-24
5.6.3　玻璃覆晶封裝 5-25

第6章　主動式矩陣背板技術 6-1
6.1 　前言 6-1
6.2　單晶矽電晶體 6-2
6.3　低溫複晶矽薄膜電晶體 6-2
6.3.1　線束型準分子雷射結晶 6-7
6.3.2 　循序性側向雷射結晶 6-8
6.3.3　固態雷射結晶 6-10
6.3.4　金屬誘發結晶型 6-12
6.3.5　複合結晶型 6-13
6.4　非晶矽薄膜電晶體 6-13
6.4.1　光罩縮減製程 6-15
6.4.2　半色調型光罩 6-18
6.4.3 　灰色調型光罩 6-19
6.4.4　狹縫型光罩 6-19
6.4.5　載子移動率 6-20
6.4.6　微晶矽薄膜 6-22
6.4.7 　臨界電壓 6-24
6.5　有機薄膜電晶體 6-25
6.5.1　有機主動層 6-26
6.5.2　電極結構 6-30
6.5.3 　接觸電阻 6-31
6.5.4　導通電阻 6-32
6.5.5　閘極絕緣層 6-33
6.5.6　複合型閘極絕緣層 6-33
6.5.7 　絕緣層表面型態 6-34
6.6　畫素發光架構 6-35
6.6.1　下部發光型畫素 6-36
6.6.2　上部發光型畫素 6-38
6.6.3　雙面發光型畫素 6-38
6.7　低阻值導線 6-39
6.7.1　鋁金屬 6-42
6.7.2 　銅與銀金屬 6-42

第7章　有機發光二極體陽極製程 7-1
7.1　前言 7-1
7.2 　陽極電極特性 7-2
7.3　氧化銦錫 7-5
7.3.1　成膜技術 7-6
7.3.2　冷氧化銦錫 7-9
7.3.3 　薄膜導電性 7-10
7.3.4　表面粗糙度 7-11
7.4　氧化銦鋅 7-12
7.4.1　成膜技術 7-13
7.4.2 　表面粗糙度 7-14
7.5　氧化鋅 7-15
7.5.1　成膜技術 7-15
7.5.2　薄膜導電性 7-16
7.6 　堆疊型陽極 7-16
7.7　反射型陽極 7-17
7.8　微共振腔結構 7-18
7.8.1　金屬鏡-金屬鏡型微共振腔 7-18
7.8.2　金屬鏡-布拉格反射鏡型微共振腔 7-21
7.9　陽極表面處理 7-22
7.9.1　溼式與乾式處理 7-22
7.9.2　底層表面形態 7-25
7.9.3　基板平整性 7-26

第8章　有機發光二極體陰極製程 8-1
8.1　前言 8-1
8.2　陰極電極特性 8-2
8.3　單層型陰極 8-4
8.4 　合金型陰極 8-5
8.5　多層型陰極 8-6
8.6　半穿透金屬型陰極 8-7
8.7　對比加強架構 8-8
8.7.1 　圓形偏光架構 8-10
8.7.2　光學增亮膜 8-12
8.7.3　內部光學干涉 8-13
8.7.4　抗反射層 8-15
8.7.5 　整合式黑色矩陣結構 8-16

第9章　主動式類比畫素設計 9-1
9.1　前言 9-1
9.2 　畫素設計設定 9-1
9.2.1　畫素間距 9-2
9.2.2　畫素開口率 9-5
9.2.3　RGB畫素排列架構 9-5
9.2.4 　RGBW畫素排列架構 9-6
9.3　差異性衰減 9-8
9.3.1　子畫素配置 9-10
9.3.2　畫素驅動補償 9-11
9.3.3　加瑪校正 9-12
9.4　畫素驅動分類 9-12
9.4.1　1T簡易型畫素 9-13
9.5 　電壓定義型畫素 9-14
9.5.1　2T-1C畫素驅動 9-15
9.5.2　修正型2T-1C畫素驅動 9-16
9.5.3 　3T-1C畫素驅動 9-18
9.5.4　4T-2C畫素驅動 9-19
9.6　電流定義型畫素 9-22
9.6.1　4T- 1C電流鏡畫素驅動 9-22
9.6.2　4T-1C電流複製畫素驅動 9-24
9.7　畫素補償架構 9-25

第 10章　主動式數位畫素設計 10-1
10.1　前言 10-1
10.2　數位驅動設計 10-2
10.3　面積比例灰階型 10-2
10.3.1　畫框權重 10-2
10.3.1　面積比例設計 10-3
10.4　訊號時間比例灰階型 10-5
10.4.1　顯示區間分離法 10-5
10.4.2　顯示區間分離法畫素 10-7
10.4.3　同步消除掃描法 10-8
10.4.4　同步消除掃描法畫素 10-9
10.5　時間面積混合比例灰階型 10-10

第 11章　有機發光二極體封裝技術 11-1
11.1　前言 11-1
11.2畫素暗點 11-2
11.2.1 　壽命 11-3
11.2.2　老化機制 11-4
11.3　封裝規格需求 11-6
11.4　外蓋封裝 11-7
11.4.1 　外蓋封裝製程 11-8
11.4.2　外蓋材質 11-10
11.4.3　外蓋封口膠 11-13
11.4.4　乾燥劑 11-16
11.5　單層薄膜封裝 11-19
11.5.1　氧化矽膜封裝 11-23
11.5.2　氮化矽膜封裝 11-24
11.5.2　SiONx單層膜封裝 11-25
11.5.3　類鑽碳單層膜封裝 11-25
11.5.4　其他單層膜封裝 11-26
11.6　多層薄膜封裝 11-27
11.6.1　氮化矽/氮化碳多層膜封裝 11-27
11.6.2　氮化矽/氧化矽多層膜封裝 11-28
11.6.3　混合多層膜封裝 11-28
11.6.4　可撓曲封裝 11-29

第 12章　有機發光二極體技術藍圖 12-1
12.1　平面顯示技術藍圖 12-1
12.2　有機發光二極體顯示器的未來 12-5
12.4　結語 12-8

附錄A　RPI複晶矽薄膜電晶體模型參數 A-1
附錄B　RPI非晶矽薄膜電晶體模型參數 B-1

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